Reticle limit
De maximale fysieke grootte van één chip (die), bepaald door het belichtingsveld van de lithografiemachine: zo'n 858 mm² bij de huidige EUV. Geen monolithische chip kan groter zijn, een harde grens die chiplets en geavanceerde packaging aandrijft.
Werking: lithografie "stempelt" het patroon via een masker (reticle) telkens op een beperkt veld; dat veld bepaalt het plafond voor een aaneengesloten die. De grootste gpu's (zoals de topchip van Nvidia) zitten al op de reticle limit, dus je kunt de chip niet zomaar groter maken. Oplossingen: meerdere dies koppelen met geavanceerde packaging (chiplets, CoWoS, die-stitching) om logisch over de grens heen te gaan.
High-NA EUV heeft bovendien een nog kleiner veld (gehalveerd), waardoor patronen aan elkaar gestikt moeten worden. Een fundamentele fysieke barrière in modern chipontwerp.