Litografi
Devre desenini ışık ve ışığa duyarlı bir direnç (resist) yardımıyla yarı iletken bir levhaya aktarma süreci. Yarı iletken endüstrisinin tüm ölçeğini belirler.
Dalga boyu dönemleri: g-line (436 nm, 1980'ler) → i-line → 248 nm KrF → 193 nm ArF (derin UV, "DUV") → 193 nm daldırma (levhanın üzerindeki su etkin NA'yı artırır) → 13,5 nm EUV (Extreme UV, 2018'den beri). Özellik boyutu dalga boyundan küçük olduğunda çoklu desenleme gerekir. EUV'nin tek üreticisi ASML'dir.