Litografi photolithography
Process att överföra mönster (kretsen) till halvledarwafer via ljus + fotokänslig resist. Definierar hela halvledarindustrins skala.
Våglängds-eror: g-line (436 nm, 1980-tal) → i-line → 248 nm KrF → 193 nm ArF (deep UV, "DUV") → 193nm immersion (vatten ovanpå wafer höjer effektiva NA) → 13.5 nm EUV (Extreme UV, sedan 2018). Multi-patterning krävs när feature-size är mindre än våglängd. ASML är ensam EUV-tillverkare.