Lithografie
Proces waarbij met licht en een lichtgevoelige laag (resist) een patroon — het circuit — op een halfgeleiderwafer wordt overgebracht. Bepaalt de schaal van de hele halfgeleiderindustrie.
De golflengtetijdperken: g-line (436 nm, jaren tachtig) → i-line → 248 nm KrF → 193 nm ArF (deep UV, "DUV") → 193 nm immersie (water op de wafer verhoogt de effectieve NA) → 13,5 nm EUV (extreme ultraviolet, sinds 2018). Multipatterning is nodig zodra de structuren kleiner zijn dan de golflengte. ASML is de enige fabrikant van EUV-machines.