Litografia
Processo che trasferisce un disegno (il circuito) su un wafer di semiconduttore tramite luce e resist fotosensibile. Definisce la scala dell'intera industria dei semiconduttori.
Le ere per lunghezza d'onda: linea g (436 nm, anni Ottanta) → linea i → 248 nm KrF → 193 nm ArF (ultravioletto profondo, «DUV») → 193 nm a immersione (l'acqua sopra il wafer aumenta l'apertura numerica effettiva) → 13,5 nm EUV (ultravioletto estremo, dal 2018). Quando le dimensioni delle strutture sono inferiori alla lunghezza d'onda serve il multi-patterning. ASML è l'unico produttore di sistemi EUV.