IT-словарь › Оборудование › EUV-литография

EUV-литография

Оборудование Svenska → Обновлено: 2026-10-19

Печать схемных рисунков светом с длиной волны 13,5 нанометра. Станки делает только нидерландская ASML, что превращает их в геополитический вопрос.

Свет получают, стреляя лазером по расплавленным каплям олова пятьдесят тысяч раз в секунду, так что они превращаются в плазму. На такой длине волны излучение поглощается всем, включая воздух и обычное стекло, поэтому весь путь луча проходит в вакууме, а оптика — это зеркала из десятков слоёв толщиной в атомы, изготовленные Zeiss; одни из самых ровных поверхностей, созданных человечеством. Один станок стоит около 150 млн долларов, весит как пара автобусов и перевозится несколькими самолётами. Технология вышла на серийное производство в 2019 году и лежит в основе всего, что тоньше семи нанометров. Следующее поколение, High-NA, вдвое дороже, и его установка у Intel и TSMC уже началась.

← Назад к словарю