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V-NAND

ハードウェア Svenska → 更新: 2026-10-22
詳細情報
開発元
Samsung
年
2013
種類
3D NANDフラッシュ

フラッシュのセルを横方向にはもう縮小できなくなったとき、サムスンが出した答えは「上に積む」だった。

2010年代初頭、平面型NANDフラッシュは壁に突き当たっていた。セルが近づきすぎて互いに干渉し、信頼性が落ちたのだ。サムスンは2013年にV-NAND(「垂直NAND」)で応えた。量産された最初の3D NANDで、セルをさらに縮める代わりに縦に積む。層数は数十層から、現在では200層超にまで達した。

この技術は記憶方式も、フローティングゲートから積層に適したチャージトラップフラッシュ(CTF)へ切り替えた。結果として、高密度で安く、耐久性の高いフラッシュが得られ、現代のSSDを支える原動力となった。NANDメーカー各社が追随したが、先に到達したのはサムスンで、今も高い層数を維持している。

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