V-NAND
詳細情報
- 開発元
- Samsung
- 年
- 2013
- 種類
- 3D NANDフラッシュ
フラッシュのセルを横方向にはもう縮小できなくなったとき、サムスンが出した答えは「上に積む」だった。
2010年代初頭、平面型NANDフラッシュは壁に突き当たっていた。セルが近づきすぎて互いに干渉し、信頼性が落ちたのだ。サムスンは2013年にV-NAND(「垂直NAND」)で応えた。量産された最初の3D NANDで、セルをさらに縮める代わりに縦に積む。層数は数十層から、現在では200層超にまで達した。
この技術は記憶方式も、フローティングゲートから積層に適したチャージトラップフラッシュ(CTF)へ切り替えた。結果として、高密度で安く、耐久性の高いフラッシュが得られ、現代のSSDを支える原動力となった。NANDメーカー各社が追随したが、先に到達したのはサムスンで、今も高い層数を維持している。