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Lithographie

Matériel Svenska → Mis à jour: 2026-09-23

Le procédé qui transfère un motif — le circuit — sur une plaquette de semi-conducteur grâce à la lumière et une résine photosensible. Il définit à lui seul l'échelle de toute l'industrie des puces.

Les longueurs d'onde se sont succédé : g-line (436 nm, années 1980) → i-line → 248 nm KrF → 193 nm ArF (ultraviolet profond, « DUV ») → immersion à 193 nm (une pellicule d'eau sur la plaquette augmente l'ouverture numérique effective) → 13,5 nm EUV (extrême ultraviolet, depuis 2018). Le multi-patterning devient nécessaire dès que la taille des motifs descend sous la longueur d'onde utilisée. ASML est l'unique fabricant de machines EUV au monde.

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